等离子清洗机清洗原理是什么_等离子清洗机清洗原理

1.等离子清洗机处理晶圆的时候为什么会产生闪光？是因为真空腔里面加入了氧气的缘故吗？

2.等离子清洗机清洗法的区别有那些？

3.等离子清洗机会导致金属表面氧化吗

4.等离子是什么？等离子清洗机的优点有哪些？

5.等离子清洗机的介绍

等离子体是一种高能量不稳定的状态。利用这种高能量而又不稳定的状态，等离子体有各种各样的应用。我们目前所说的，是集中在等离子表面改性，或者说等离子表面处理的应用。就是利用等离子体的高能量、不稳定的特点，当固体材料表面接触到等离子体后，表面的微观结构、化学性质、能量都会发生变化。

等离子表面改性（等离子表面处理），就是利用等离子体的特点，对需要处理的固体材料表面进行清洁、活化、激活，从而实现改变表面微观结构、化学性质、能量的目的。

对材料表面的刻蚀作用--物理作用：

等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。

达因特等离子清洗机！

等离子清洗机处理晶圆的时候为什么会产生闪光？是因为真空腔里面加入了氧气的缘故吗？

等离子清洗机是什么？

等离子清洗机是清洗行业里面的高级设备，因为有“清洗”两字，对于第一次和等离子清洗机接触的人，很容易就联想到洗米洗菜洗衣服。为了让这些小白明白等离子清洗是什么，写一篇文章给这些小白普及一下等离子清洗机的入门常识。

很多人问的比较多的问题是，等离子清洗机可以清洗什么，是不是什么都能够洗掉，甚至说清洗产品的时候要不要加洗衣粉，清洗剂什么的。比如懂一点的会问等离子清洗机和超声波清洗机有什么区别，对于这些刚接触等离子清洗机的人们，就必要给这些讲解一下

等离子清洗机，又名plasma清洗机，等离子表面处理机设备。光从名称上来看，清洗并不是清洗，而是处理和反应。从机理上看：等离子清洗机在清洗时通入工作气体在电磁场的作用下所激发的等离子与物体表面产生物理反应和化学反应。其中，物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面最终被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质，从而达到清洗目的。

等离子清洗机不用加什么洗衣粉清洗剂之类的玩意，等离子清洗机属于干洗设备，需要加气体。

我们的工作气体，经常用到氢气（H2）、氮气（N2）、氧气（O2）、氩气（Ar）、甲烷（CF4）等。在等离子清洗机过程中很容易对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等进行处理。当然这样以来让我们很容易联想到：去除零件上的油污，去除手表上的抛光膏，去除线路板上的胶渣，去除DVD上的水纹等等。不过去除油污除锈这些工作通常用的是超声波清洗机，超声波清洗机用的是水洗设备，水里面会加清洗剂，去除不同的油污所需要添加的清洗剂不相同。这个根据实际情况去配比。如果是去除线路板上面的胶渣，就需要用到等离子蚀刻机，这个设备有一定的技术含量，一般的小厂还做不出来。

金徕等离子清洗机的作用实际上不是清洗油污，而是对物体的表面进行改性，提升物体表面的粘接力，好多材料如玻璃、硅胶、塑料等高分子材料，如果直接喷涂电镀、粘接这些操作效果非常差，如果使用等离子对物体的表面清洗一遍，对这些物体的表面做一个改性处理，其粘接力大不相同。

“洗表面“才是等离子清洗机技术的核心，这一核心也是现在众多企业之所以选择 等离子清洗机的重点。”洗表面“跟电浆机和等离子表面处理设备这两个名字密切相联。简单的来说清洗表面就是在被处理材料表面打出无数个肉眼看不到的小孔，同时在表面形成一个新的氧化层薄膜。这样以来大大增加了被处理材料的表面积，间接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸润性、扩散性等等。而这些性能又恰当的应用在手机，电视，微电子，半导体，医疗，航空，汽车等各行各业中，为众多企业解决多年未曾解决的难题。

等离子清洗机清洗法的区别有那些？

硅晶片使用等离子处理真空腔里面闪光是正常的，讲清洗其整个过程还比较麻烦。至于等离子除胶通入氧气是常见做法，氧气等离子除胶，原理就是辉光放电将氧气变成等离子态，中性的氧气的变成带电粒子（有正电荷，也有负电荷），这些高能粒子轰击物体表面，提高表面能，这就改变物体表面的性质，像使硅片亲水。因为表面能量过高，处于不稳定的状态，所以这种效果稍纵即逝。

不过用特殊气体（少量甲烷）和空气作为工艺气体，在处理表面形成羟基，达到亲水效果，时效性大大延长。

等离子表面处理是一种新的技术，可以实现很多功能，主要是超洁净清洗、活化、刻蚀、涂覆这四种。

如果你想要达到活化使得硅片具有亲水的效果，需要使用功率高的等离子清洗机进行处理，这时活化的功能占据主导地位，而时效性可以达到1个月至半年。

最前沿的等离子表面处理技术，就是涂覆的功能，在硅片表面加上纳米级别的亲水涂层，而且不影响硅片本身的性能，最终要的一点是这种处理的时效性是永久的

晶圆片级封装等离子体处理在晶园级封装中的先进应用日益增多，由于半导体器件制造商进一步缩小尺寸，提高封装器件的可靠性，等离子处理机在更高层次的晶圆级封装中得到了越来越多的应用。晶圆片等离子清洗机可以处理多种尺寸的晶片，大容量，自动化处理。

片状清洗等离子清洗机用于消除晶园级设备制造或上游组装过程中所产生的污染物。不管是哪种情况，清洁产品以去除氟，氧化物或是金属的污染，都会大大提高集成电路的产量，可靠性和性能。

脱渣为光刻胶残留量有时仍在发展、处理。等离子体处理在进一步处理之前，少量抗蚀剂在晶片的整个表面上被均匀地去除。晶圆片等离子清洗机等离子体处理可用于成批剥离，材料包括光致抗蚀剂，氧化物，氨化物蚀刻，电介质。蚀刻率均匀度大于%，每分钟1微米可实现。剥离与蚀刻工艺可用于圆片级封装，MEMS制造及磁盘驱动器处理。硅片前处理等离子处理机去除污染物和氧化，提高粘接率和可靠性。此外，等离子清洗机还为微粗糙改善晶片钝化层之间的粘附。

在UBM中，BCB与UBM的粘附等离子体处理改变晶片的钝化层的形态和润湿作用。高分子材料，例如苯并环丁烯（BCB）和UBM，在晶片的介电层中重新分布。等离子体清洗机处理使硅片初始钝化层形态发生变化，润湿性增强。介质图案形成再分配层的典型方法包括用典型光刻方法对介质再分配材料进行图案化。晶圆片等离子清洗机等离子体清洗是介质图案化的可行替代方法，并可避免传统的湿法处理。

利用WLP小孔的清理，将晶片组成在堆叠芯片上，常会产生残余的产物，通过形成过程。通等离子体过优化结构，可以在不损伤晶片表面的情况下处理通孔。压凹等离子清洗可改善压凹粘连，提高压凹剪切强度。通过改善晶片表面的凹凸粘连，等离子清洗机可以显著提高凹凸剪切强度，凸模材料包括焊料和金钉的不同成分。

等离子清洗机会导致金属表面氧化吗

等离子清洗是等离子表面改性的其中较为常见的一种方式。

等离子清洗的清洗方法有以下几种类型：

（1）对材料表面的刻蚀作用--物理作用

等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。

（2）激活键能，交联作用

等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。

（3）形成新的官能团--化学作用

如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。

达因特等离子清洗机！

等离子是什么？等离子清洗机的优点有哪些？

等离子清洗机会导致金属表面氧化

等离子清洗机是一种干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。它是用工作气体在电磁场的作用下激发出等离子体与物体表面产生物理和化学反应，从而达到清洗的目的；而超声波清洗机是一种湿法清洗，主要是清洗很明显的灰尘和污染物，属于一种粗略的清洗。它是用液体（水或者溶剂）在超声波的震动作用下对物体进行清洗，从而达到清洗的目的。启天科技生产的等离子清洗机就是一种清洗很精细、很彻底的表面处理设备。

等离子清洗机的介绍

等离子技术是最近几年新兴的高 科技 手段，相信在这之前不少人都不知道什么是等离子，我们可以先看看它的定义，然后再来了解它的优点，就更直观一些了。

如果温度不断升高，这时构成分子的原子发生分离，形成为独立的原子，如氮分子会分裂成两个氮原子，我们称这种过程为气体中分子的离解。

如果再进一步升高温度，原子中的电子就会从原子中剥离出来，成为带正电荷的原子核和带负电荷的电子，这个过程称为原子的电离。电离过程的发生，形成了等离子。

等离子态下的物质，具有良好的导电性、导热性。

而我们今天说的等离子清洗机就是运用了等离子技术的一种高 科技 仪器，它的优点可以大概总结为以下6点：

1、经过等离子清洗机清洗之后，清洗对象已经干透，不需要再次进行干燥处理了，立刻就能移送到下一道程序，可以有效提升整个处理流程。

2、使用者可以免受有害溶剂的伤害，同时也避免了湿洗对于清洗对象的损坏风险。

3、等离子技术环保安全，不会产生有害物质，因此在日渐重视环保的今天，它的重要性尤其突出。

4、高频等离子清洗机对清洗对象的形状没有太多的要求，对于难清洗的部位效果也很好，是真正没有死角的清洗，从另一方面来看，也算是另外一种的节省人工时间成本了。

5、运行成本低，避免了对于清洗剂的运输、储存、排放等问题，可以使生产场所保持干净卫生。

6、既可以去污，又能提高材料本身的表面性能，比如说可以提高表面的润湿性，提高膜的粘附性等等。

等离子技术因为这么多的好处，所以被广泛的应用于工业、农业、环保、军事、医学、宇航、能源、天体等领域，是现代 科技 的产物，未来它也将精益求精，一直为人类造福下去。

Kimberlite等离子清洗设备。

1，清洗时间短，反应速度快：在气体放电瞬间发生等离子体反应，改变表面的性质可能就需要几秒；

2，等离子清洗温度低或接近常温，不会对材料造成损害；

3，等离子体是具有高能量，无需添加催化剂即可实现的反应，达到表面改性效果；

4，应用范围广，对处理对象无要求，均可进行表面性能改造；

5，等离子清洗有效控制企业的成本，易操作，可连续运行无需24小时看管；

6，最后一点，也是非常重要的一点。等离子清洗相比传统清洗更环保，不使用氯代烃清洗剂、水基清洗剂和碳氢溶剂等，不仅具有毒性、水处理繁琐、清洗效果较差以及不易干燥安全性。